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Geht es um die Reinigung vor dem Lackieren oder Beschichten, lassen sich mit der trockenen quattroClean-Technologie signifikante Effizienz- und Nachhaltigkeitspotenziale ausschöpfen. Bei der Entfernung locker anhaftender, partikulärer Verunreinigung ermöglicht die neu entwickelte Rotations-Zweistoffringdüse eine hohe Flächenleistung bei minimiertem Kohlendioxid- und Druckluftverbrauch. Sind neben partikulären auch filmische Verunreinigungen prozesssicher ganzflächig oder partiell zu entfernen, bietet sich die quattroClean-Schneestrahltechnologie an. Für die ganzflächige oder partielle Entfernung hartnäckiger partikulärer und filmischer Verunreinigung hat acp systems die quattroClean-Powerstrahltechnologie entwickelt. Das flüssige Kohlendioxid wird hier systemintegriert zu körnigem Reinigungsgranulat verdichtet und mit Druckluft beschleunigt gezielt auf die zu reinigende Oberfläche gestrahlt. So kann ein vollautomatisierter, unterbrechungsfreier Reinigungsprozess realisiert werden.